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拓荆科技
    稿源:   2016-07-13 14:08
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  沈阳拓荆科技有限公司前身为中科院沈阳科学仪器研制中心有限公司PECVD事业部。2010年由海外专家带领国内团队成立独立公司,专项研制适用于12英寸芯片生产线的90-65nm PECVD设备。短短5年已经发展成为具有世界先进技术的极大规模集成电路专用薄膜设备高新技术企业,矢志成为世界纳米级薄膜制造技术解决方案的领导者。

  PECVD设备是集成电路装备四大核心设备之一,一条投资70亿美元的芯片制造生产线,需要5亿美金左右来采购一百多台PECVD。其核心技术是利用等离子体增强化学气相沉积法,在硅晶片表面镀一层固态薄膜。该技术完全被美日等发达国家垄断,设备进口严重限制。

  拓荆公司是国内唯一一家能够生产用于大规模集成电路生产线的全自动PECVD设备的供应商,公司12英寸PECVD产品各项功能及技术指标达到国际先进水平,填补国内空白,完全可以替代进口设备。

 
编辑: 解角枞
 
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